一种避免浅沟槽隔离结构出现深度负载效应的方法

摘要

本发明主要涉及一种避免浅沟槽隔离结构出现深度负载效应的方法，藉由第一、第二开口刻蚀衬底，对应分别形成位于第一区域中的带有倾斜侧壁的第一沟槽和位于第二区域中的带有倾斜侧壁的第二沟槽，后续再刻蚀第二沟槽暴露出来的底部区，直至第一、第二沟槽的深度相同并且呈现为倾斜面的侧壁形貌。