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用于静电放电(ESD)保护的延伸漏极非平面MOSFET

摘要

描述了采用了一个或多个非平面金属氧化物半导体晶体管(MOSFET)的骤回ESD保护器件。所述ESD保护器件还可包括轻掺杂延伸漏极区,所述轻掺杂延伸漏极区的电阻可通过控制栅极来电容地控制,而不依赖于被保持处于地电位的栅极电极。控制电极可以是浮置的或被偏置,以便调制ESD保护器件性能。在实施例中,利用多个非平面基于MOSFET的ESD保护器件来保护多个核心电路,所述多个非平面基于MOSFET的ESD保护器件具有跨所述多个非平面基于MOSFET的ESD保护器件改变的控制栅极电位。

著录项

  • 公开/公告号CN104584216B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201380045101.4

  • 发明设计人 A·阿赫桑;W·M·哈菲兹;

    申请日2013-06-19

  • 分类号H01L27/04(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈松涛;王英

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 10:12:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-19

    授权

    授权

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/04 申请日:20130619

    实质审查的生效

  • 2015-04-29

    公开

    公开

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