反应气体输送装置及化学气相沉积或外延层生长反应器

摘要

本发明公开了一种用于化学气相沉积或外延层生长反应器的气体输送装置，包括一隔离板和一气体输送板，所述隔离板上方形成第一气体扩散区域，所述隔离板和所述气体输送板之间形成第二气体扩散区域；所述气体输送板上表面交替设置相互平行的纵长形的第一气体扩散槽和纵长形的第二气体扩散槽，第一气体扩散槽和第二气体扩散槽槽底部分别设置第一气体出气通道和第二气体出气通道，分别用于将第一气体扩散区域内的气体和第二气体扩散区域内的气体输送到处理区域内；相邻的第一气体出气通道出口和第二气体出气通道的出口之间的气体输送板下表面为弧形或尖锥形。