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公开/公告号CN103681865B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-27
原文格式PDF
申请/专利权人 三星电子株式会社;
申请/专利号CN201310445019.2
发明设计人 宋泰中;金奎泓;朴在浩;郑钟勋;
申请日2013-09-26
分类号
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人陈源
地址 韩国京畿道
入库时间 2022-08-23 10:08:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-27
授权
2015-09-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20130926
实质审查的生效
2014-03-26
公开
机译: 包括不对称硅化物结构的场效应晶体管及其相关器件
机译: 包括不对称硅化物结构的场效应晶体管及相关器件
机译: 包括使用自对准硅化物(自对准硅化物)结构的场效应晶体管的半导体器件及其制造方法
机译:应变硅层对纳米级互补金属氧化物半导体场效应晶体管器件中镍(锗)硅化物的影响
机译:场效应晶体管的不对称稠合噻吩:晶体结构-膜微结构-晶体管性能的相关性
机译:共轭聚合物聚(3-己基噻吩)中烷基侧链的结构转变和分化及其对相关有机场效应晶体管器件性能的影响
机译:与钛硅化物工艺的预非晶化相关的器件降解
机译:通过点接触反应,纳米硅器件的镍硅/硅/硅镍和铂硅/硅/铂硅纳米线异质结构形成纳米硅化物。
机译:偏振相关拉曼光谱法分析有机场效应晶体管器件中并五苯分子的取向
机译:具有镍硅化物接触的超薄多晶硅纳米片无结构场效应晶体管
机译:用于高温(350℃)电子应用的BN-al(X)Ga(1-X)N基异质结构场效应晶体管器件。