法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-19
授权
授权
2015-12-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H03D7/16 申请日:20150701
实质审查的生效
2015-11-04
公开
公开
机译: 减少薄栅氧化物金属氧化物半导体场效应晶体管中栅极感应的漏漏电流的方法和装置
机译: 沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)具有低栅漏耦合电荷(Qgd)结构
机译: 沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)具有低栅漏耦合电荷(Qgd)结构