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利用侧壁工艺制造窄的写入磁头的极尖

摘要

磁头包括P2磁极尖,在该磁头中,P2磁极尖材料电镀在P2磁极尖光刻槽的侧壁上。为了进行这种电镀,在写入间隙层上沉积材料块,使得在P2磁极尖的位置上形成材料块的大体直的垂直侧壁。然后,在该侧壁上形成电镀接种层。用光刻技术形成P2磁极尖沟槽,使得侧壁(以及它的沉积接种层)露在P2磁极尖沟槽的里面,然后在接种层上,从沟槽里面的侧壁外面电镀磁极尖材料,形成P2磁极尖。该P2磁极尖的宽度因此由沉积在侧壁上的磁极尖材料的量决定。

著录项

  • 公开/公告号CN1272769C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-08-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日立环球储存科技荷兰有限公司;

    申请/专利号CN02816995.6

  • 发明设计人 托马斯·迪南;理查德·肖;

    申请日2002-08-07

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王彦斌

  • 地址 荷兰阿姆斯特丹

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-04-20

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/31 授权公告日:20060830 终止日期:20090807 申请日:20020807

    专利权的终止

  • 2006-08-30

    授权

    授权

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-22

    公开

    公开

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