GMR硬盘磁头自由磨粒抛光极尖沉降的研究

摘要

磁头表面极尖沉降(PTR)是影响硬盘存储密度的关键因素之一.采用修正环形浮动块研磨抛光机和自由磨粒抛光方式抛光GMR硬盘磁头,并用原子力显微镜测试磁头的PTR,抛光试验表明:PTR与抛光盘表面形貌参数、磨粒大小、抛光压力和抛光盘转速有关.抛光盘表面取合适的形貌参数可以获得小的PTR;磨粒越小,PTR越小;抛光压力越大,PTR越小;抛光盘转速越小,PTR越小.研究结果有助于优化抛光工艺,在获得最佳PTR的同时,兼顾效率与成本的因素.