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申儒林; 钟掘;
中南大学机电工程学院;
磁头; 磨粒; 抛光; 去除率; 极尖沉降;
机译:硬盘驱动器中GMR和TMR磁头的ESD容限
机译:用于硬盘驱动器的当前平面内GMR三层磁头设计:特性和可扩展性
机译:应力对用于硬盘驱动器的GMR磁头的磁性能的影响
机译:GMR硬盘磁头的超精密抛光
机译:化学机械抛光(CMP)中材料去除机理的机械方面。
机译:使用液氮处理的碳材料增强废水中抗生素的去除:材料性能和去除机理
机译:浆料对化学机械抛光过程中材料去除机理的基本作用研究
机译:延性材料固体颗粒侵蚀中材料去除机理
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机译:CPP结构的GMR装置,薄膜磁头,磁头万向架组件和硬盘系统
机译:在防止MR / GMR磁头,由此生产的MR / GMR磁头以及使用由此生产的MR / GMR磁头的存储设备中防止屏蔽引线短路的改进方法
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