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一种适合分子束外延制备氧化物薄膜的方法

摘要

本发明属于半导体材料技术领域,涉及一种利用分子束外延制备氧化物薄膜的方法,将传统的分子束外延设备改造成等离子体协助分子束外延,发挥分子束外延技术在制备材料方面的优势,获得研究和制备氧化锌薄膜器件的最佳方法。利用射频等离子体源将氧气活化,变成氧原子再引进到生长室,有效地降低了生长温度,同时利用铂金丝缠绕在由高纯陶瓷制成的炉盘上作为衬底加热装置,通过铂铑热偶对温度进行监控,避免了氧化问题,实现了ZnO、ZnMgO薄膜的制备。本发明适合于利用分子束外延制备氧化物薄膜。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-03-10

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-05-31

    授权

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  • 2005-01-26

    实质审查的生效

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  • 2004-08-04

    公开

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