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一种超结垂直氮化镓基异质结场效应晶体管

摘要

本发明提供了一种超结垂直氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由漏极,n+‑GaN衬底,GaN沟道层,AlGaN势垒层,以及AlGaN势垒层上的源极和栅极组成,源极与漏极均为欧姆接触,栅极为肖特基接触,其还包括由p‑GaN缓冲层和n‑GaN缓冲层竖向排列形成的超结缓冲层,所述的超结缓冲层位于n+‑GaN衬底与GaN沟道层之间。本发明中,由p‑GaN缓冲层和n‑GaN缓冲层形成的超结结构可以在器件击穿时完全耗尽,器件整个缓冲层都可以承受耐压,从而大幅提升器件击穿电压。

著录项

  • 公开/公告号CN103035707B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201310000143.8

  • 申请日2013-01-04

  • 分类号H01L29/778(20060101);H01L29/417(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构51228 成都君合集专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人廖曾

  • 地址 610054 四川省成都市建设北路二段4号

  • 入库时间 2022-08-23 09:55:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-10

    授权

    授权

  • 2013-05-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/778 申请日:20130104

    实质审查的生效

  • 2013-04-10

    公开

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