图案形成方法、多层抗蚀剂图案、有机溶剂显影用多层膜、抗蚀剂组合物、用于制造电子器件的方法以及电子器件

摘要

所提供的是一种图案形成方法，所述方法包括：(i)通过使用第一树脂组合物(I)在基板上形成第一膜的步骤；(ii)通过使用与所述树脂组合物(I)不同的第二树脂组合物(II)在所述第一膜上形成第二膜的步骤；(iii)将具有所述第一膜和所述第二膜的多层膜曝光的步骤；和(iv)通过使用含有有机溶剂的显影液将经曝光的多层膜中的所述第一膜和所述第二膜显影以形成负型图案的步骤。