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使用热丝化学气相沉积(HWCVD)腔室清洁基板表面的方法

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摘要

在此提供用于使用热丝化学气相沉积（HWCVD）腔室清洁基板的表面的方法。在一些实施方式中，用于清洁基板的表面的方法可包括以下步骤：提供基板至热丝化学气相沉积（HWCVD）腔室，该基板具有布置在该基板的表面上的材料；提供氢（H

著录项

  • 公开/公告号CN103597581B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201280027578.5

  • 发明设计人 苏克蒂·查特吉;朴廷元;

    申请日2012-06-06

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:49:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-21

    授权

    授权

  • 2014-07-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/205 申请日:20120606

    实质审查的生效

  • 2014-02-19

    公开

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