用于在真空处理腔室中进行基板处理期间保持基板的保持布置、用于在真空处理腔室中支撑基板的载体和用于保持基板的方法

摘要

本公开内容提供了一种用于在真空处理腔室(912)中进行基板处理期间保持基板(10)的保持布置(100)。所述保持布置(100)包括：柔性装置，所述柔性装置具有一个或多个区段，其中所述一个或多个区段在第一操作条件下被提供以具有第一部分、第二部分和弯曲部分，其中所述弯曲部分被提供在所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第一部分具有经构造以面向所述基板的表面，并且其中所述第一部分和所述第二部分相对于彼此是可移动的；和粘合剂(20)，所述粘合剂提供在所述第一部分的所述表面上。