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IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing
IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing
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1.
An efficient treatment technique for TMAH wastewater by catalytic oxidation
机译:
催化氧化的TMAH废水有效的处理技术
作者:
K. Hirano
;
J. Okamura
;
T. Taira
;
K. Sano
;
A. Toyoda
;
M. Ikeda
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Tetramethylammoniumhydroxide (TMAH);
Wastewater;
Treatment;
Trimethylamine (TMA);
Catalyst;
2.
Optimized process for tungsten chemical-mechanical planarization throughput improvement
机译:
钨化学机械平面化通量改进优化工艺
作者:
K. W. Chen
;
Y. L. Wang
;
T. C. Wang
;
J. K. Wang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Tungsten chemical-mechanical planarization (WCMP);
Throughput;
And combination of multiple pads;
3.
Approach to shorten ULSI development lead-time by effective process condition editing and dynamic lot-progress control systems
机译:
缩短ULSI开发延期时间的方法,通过有效的过程条件编辑和动态批次进展控制系统
作者:
Hiroaki Ishizuka
;
Haruo Takamori
;
Shigeru Matsumoto
;
Shingo Yamaguchi
;
Toshihiko Arakawa
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
CIM;
Process flow;
Progress control;
4.
Microeconomics of metrology, yield, and profitability in 300mm manufacturing
机译:
300mm制造业的计量,产量和盈利能力的微观经济学
作者:
K. M. Monahan
;
A. Chatterjee
;
G. Falessi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
5.
Critical area based yield modeling on an advanced microprocessor design
机译:
基于临界区域在高级微处理器设计上的产量建模
作者:
Julie Segal
;
Susan Parker
;
Sergei Bakarian
;
James Pak
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Critical area analysis;
Defect-related yield loss;
Microprocessor;
6.
Metrology strategy for next generation semiconductor manufacturing
机译:
下一代半导体制造的计量策略
作者:
Alain C. Diebold
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Metrology;
Roadmap;
Critical dimensions;
Gate dielectric;
Low k;
7.
Aluminum grain interaction with metal etch induced by TiN film thickness
机译:
锡膜厚度诱导金属蚀刻的铝晶粒相互作用
作者:
John Campbell
;
Alfred Griffin
;
Jennifer Manzay
;
Antonietta Oliva
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
TiN;
Etch;
Aluminum grain;
8.
An effective SPC approach to monitoring semiconductor manufacturing processes with multiple variation sources
机译:
一种有效的SPC方法,用于监测多个变化源的半导体制造过程
作者:
Argon Chen
;
R. -S. Guo
;
P. -J. Yeh
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Rational sub-grouping;
Statistical process control (SPC);
Multivariate T{sup}2 control chart;
9.
New identification system for individual wafer management
机译:
单个晶圆管理的新识别系统
作者:
Eiko Suzuki
;
Hajime Matsuda
;
Teiichirou Chiba
;
Akira Mori
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Laser marking;
Finer ID;
Beveled section;
Dot topography and V-shaped notch;
10.
Realizing dynamic manufacturing service provisioning mechanism in order commitment service
机译:
在订单承诺服务中实现动态制造服务供应机制
作者:
Shi-Chung Chang
;
Ruey-Shan Guo
;
Yea-Huey Su
;
Yi-Chang Lai
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Virtual fab enabling framework;
Dynamic manufacturing service provisioning mechanism (DMSPM);
Order commitment service (OCS);
Object-oriented (OO) technology;
11.
Environmentally conscious IC molding compound without toxic flame-retardants
机译:
没有有毒阻燃剂的环保意识IC成型化合物
作者:
Yukihiro Kiuchi
;
Masatoshi Iji
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Epoxy-resin compound;
Flame retardancy;
Foam layer;
IC package;
12.
Fujitsu's Internet business strategy
机译:
富士通的互联网业务战略
作者:
Naoyuki Akikusa
;
Yuji Hirose
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
13.
Autonomic information system for pre-production of modern LSIs
机译:
现代LSIS预生产的自主信息系统
作者:
Hiroji Ozaki
;
Kaoru Yamana
;
Yukio Matsuo
;
Tamihiro Murakami
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
14.
Intelligent yield prediction models for high-speed microprocessors
机译:
高速微处理器智能产量预测模型
作者:
Tae Seon Kim
;
Se Hwan Ahn
;
Young Gyun Jang
;
Jeong In Lee
;
Kil Jae Lee
;
Byeong Yun Kim
;
Chang Hyun Cho
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Yield prediction;
Microprocessor;
Neural network;
Intelligent speed model;
15.
Stable flow gas delivery systems for low pressure liquefied gases
机译:
用于低压液化气体的稳定流动气体输送系统
作者:
Hideki Takagi
;
Minoru Ino
;
Masahiro Tabata
;
Yukinobu Nishikawa
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Liquefied gas;
All vapor phase;
Gas delivery;
16.
Application of novel nozzle-scan coating technique to ferroelectric film fabrication
机译:
新型喷嘴扫描涂层技术在铁电薄膜制造中的应用
作者:
Kumi Okuwada
;
Shin-ichi Ito
;
Takahiro Kitano
;
Masami Akimoto
;
Katsuya Okumura
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Coating;
Nozzle-scan;
Material cost;
Ferroelectric;
17.
Dynamic load balancing among multiple fabrication lines
机译:
多种制造线之间的动态负载平衡
作者:
Hiroyasu Toba
;
Masaki Yonekura
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
18.
Research and development of production control information system tool
机译:
生产控制信息系统工具的研究与开发
作者:
Yoshiriho Ishii
;
Shizu Watanabe
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
19.
Solution of in-line inspection problem for grainy metal layers by 'saturation effect' of grayscale
机译:
“灰度”饱和效应“对颗粒状金属层的线上检测问题解决方案
作者:
Ayumu Onoyama
;
Koichi Sakurai
;
Tatsuya Fujii
;
Kazuhiro Oka
;
Kenichiro Yamanishi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Pattern matching inspector;
Saturation effect;
Grain boundary;
20.
International reuse program in a green field fab
机译:
在绿色领域工厂中的国际重用计划
作者:
Amnon Grinshpan
;
Galit Lavi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Multiple factory pull in push out (MFPP);
Lead time (LT);
Trigger date (TD);
Intel property authorization form (IPAF);
Critical success indicator (CSI);
Equipment data base (EDB);
Non trivial many (NTM);
Mfg readiness checklist (MRCL);
Model of record;
21.
Yield model with redundancy based on critical area calculations
机译:
基于关键区域计算的冗余产量模型
作者:
K. Mitsutake
;
Y. Ushiku
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Yield model;
Redundancy;
Critical area;
22.
Evolution and demands of SoC in ITS and mobile communication systems
机译:
SoC在其移动通信系统中的进化与需求
作者:
Ryuji Kohno
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
23.
Block cross processing: an innovative approach to constraint management
机译:
块交叉处理:制定管理的创新方法
作者:
Shawn DeBoo
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
WIP management;
Block cross processing;
24.
Technology transfer at Internet speed
机译:
互联网速度的技术转让
作者:
Debbie Rettke
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Startup;
Ramp;
Technology transfer;
25.
Damage-free contact etching using balanced electron drift magnetron etcher
机译:
使用平衡电子漂移磁控蚀刻器无损坏的触点蚀刻
作者:
Ryu Kaihara
;
Masaki Hirayama
;
Shigetoshi Sugawa
;
Tadahiro Ohmil
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Ion reactive etching (RIE);
E×B drift;
Balanced electron drift (BED);
Damage-free etching;
26.
Suppression of tungsten irregular growth in W chemical vapor deposition
机译:
抑制W化学气相沉积的钨不规则增长
作者:
Tomoyuki Morita
;
Yusuke Harada
;
Hisanori Oki
;
Hiroshi Onoda
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
W-CVD;
Low temperature;
27.
Integrated spares solutions (ISS) program
机译:
综合备件解决方案(ISS)计划
作者:
Wendy M. Harris
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Inventory management;
Distributor;
Direct sourcing;
28.
A new fab concept in the 300mm wafer era
机译:
300mm晶圆时代的新Fab概念
作者:
Atsuyoshi Koike
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
29.
Super-hot-runs management system
机译:
超级热流管理系统
作者:
Lily Lee
;
Kevin Hsieh
;
Martin Lin
;
Richard Luoh
;
Alex Ling
;
Simon Huang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Cycle time days/layer (C/T);
Super-hot-run;
30.
Run-to-run process control of oxide CMP using integrated metrology
机译:
使用集成计量氧化物CMP的运行过程控制
作者:
Satyavolu S. Papa Rao
;
J. Stefani
;
Scott Comstock
;
Jody Larsen
;
Brant Paquette
;
Michael Wang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Integrated metrology;
Process control;
Oxide CMP;
31.
Improvement in throughput of silicon epitaxial process by using in-line moisture monitoring
机译:
在线水分监测通过在线水分监测改善硅外延过程的吞吐量
作者:
Hiroyuki Hasegawa
;
Tomonori Yamaoka
;
Manabu Hamano
;
Yoshio Ishihara
;
Takayuki Satoh
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Epitaxial;
Metal contamination;
Moisture;
32.
Improving semiconductor manufacturing yields by using Raman spectroscopic analysis
机译:
通过使用拉曼光谱分析改善半导体制造产率
作者:
T. Obara
;
J. Tanakadate
;
T. Chabata
;
K. Ishihara
;
F. Mieno
;
F. Yanagihara
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
33.
Establishment of process monitoring for production availability improvement
机译:
建立生产可用性改进的过程监测
作者:
Takeshi Noji
;
Tamotsu Suzuki
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
34.
Real-time dark filed size measurement method for yield impact evaluation
机译:
实时暗场尺寸测量方法,用于屈服影响评价
作者:
Kenji Watanabe
;
Hidetoshi Nishiyama
;
Minori Noguchi
;
Daisuke Fujiki
;
Kazunori Nemoto
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Dark field;
Defect;
Particle;
Yield impact;
Size measurement;
Size threshold;
35.
Cost and initial performance observations of CMP vs. spin-etch processing for removal of copper metalization from patterned low-k materials
机译:
CMP与旋转蚀刻处理的成本和初始性能观察,用于从图案化的低K材料中去除铜金属化的旋转蚀刻处理
作者:
Patrick S. Lysaght
;
Walt Mlynko
;
Paul Lefevre
;
Israel Ybarra
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Low-k;
Copper CMP;
Film adhesion;
36.
The role of test structures for yield enhancement and yield ramp-up: an example of adoptive yield enhancement (AYE): N{sup}+/P-well junction leakage enhanced the abnormal leakage current of NMOS's parasitic NPN-BJT
机译:
试验结构对产量增强和产量增加的作用:过继承增强的一个例子(AYE):n {sup} + / p井结漏,增强了NMOS寄生NPN-BJT的异常漏电流
作者:
Kelvin Yih-Yuh Doong
;
Binson Shen
;
Sunnys Hsieh
;
Sheng-che Lin
;
Charles Ching-Hsiang Hsu
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
SRAM;
Junction leakage;
Shallow trench isolation;
Test structures;
Adoptive yield enhancement;
37.
Low cost and short lead time AMHS design using interbay/interbay diverging and converging method for 300mm fab
机译:
使用300mm Fab的Interbay / Interbay发散和融合方法,低成本和短的铅时间AMHS设计
作者:
Ryo Kurosaki
;
Toshikatsu Shimura
;
Hiromi Komada
;
Hadayuki Kojima
;
Yoshio Watanabe
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
AMHS;
High efficiency;
Low cost;
OHT;
38.
Potential propagation model-based failure analysis support tool for MOS LSIs
机译:
基于潜在的传播模型的MOS LSI的失效分析支持工具
作者:
Mami Kodama
;
Hidenori Kakinuma
;
Jumpei Kumagai
;
Hiroshi Niina
;
Junichi Kiji
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
39.
Interference method to fabricate phase shifter of alternate phase shifting mask
机译:
制造交替相移掩模移相器的干扰法
作者:
Yi-ling Lo
;
Yi-kong Tsai
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Phase-shifting mask;
Grating;
Phase retardation;
Diffraction efficiency;
40.
Process module control for low-κ dielectrics
机译:
低κ电介质的过程模块控制
作者:
C. Hayzelden
;
C. Ygartua
;
T. Casavant
;
M. Slessor
;
A. Srivatsa
;
M. Guevremont
;
P. Stevens
;
M. Young
;
T. Lu
;
R. Zhang
;
C. Treadwell
;
D. Soltz
;
J. Lauber
;
M. Krumbuegel
;
R. Fiordalice
;
S. Lange
;
P. Marella
;
S. Ashkenaz
;
K. Monahan
;
Tuyen K. Tran
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Low-κ dielectrics;
Process module control;
Optical and electrical methodology;
Yield enhancement;
41.
An approach to determine appropriate fab development plans by taking space constraints and cost-effectiveness into consideration
机译:
通过考虑空间限制和成本效益来确定适当的FAB开发计划的方法
作者:
Jui-ling Yang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Mixed match;
Full run;
LP;
Layout constraint;
Development plan;
42.
Development of ozonated ultrapure water supplying system using direct-dissolving method
机译:
使用直接溶解法开发臭氧纯供水系统
作者:
Kazumi Tsukamoto
;
Tetsuo Mizuniwa
;
Jun-ichi Ida
;
Osamu Ota
;
Hiroshi Morita
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Long distance O{sub}3-UPW supply;
Direct dissolving;
Reverse-return;
43.
Single wafer cleaning and drying: particle removal via a non-contact, non-damaging megasonic clean followed by a high performance 'Rotagoni' dry
机译:
单晶圆清洗和干燥:通过非接触,非损坏的巨型清洁颗粒去除,然后是高性能“Rotagoni”干燥
作者:
Jeff Lauerhaas
;
Paul W. Mertens
;
Wim Fyen
;
Karine Kenis
;
Marc Meuris
;
Tom Nicolosi
;
Mario Bran
;
Brian Fraser
;
Coel Franklin
;
Yi Wu
;
Marc Heyns
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Cleaning;
Drying;
Megasonics;
Rotagoni;
44.
Visual inspection management system
机译:
视觉检验管理系统
作者:
S. H. Huang
;
L. Y. Lee
;
C. C. Lou
;
K. R. Ling
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Inspection;
Yield;
Defect;
Training;
45.
Real-time equipment health evaluation and dynamic preventive maintenance
机译:
实时设备健康评估和动态预防性维护
作者:
Argon Chen
;
R. -S. Guo
;
G. -S. Wu
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Real-time equipment monitoring;
Multivariate analysis;
Condition-based PM;
46.
Energy saving in semiconductor fabs by out-air handling unit performance improvement
机译:
通过外部处理单元性能改进,半导体Fab的节能
作者:
Hirokazu Suzuki
;
Hideo Hanaoka
;
Yoshinori Ohkubo
;
Yoshio Yamazaki
;
Yasuyuki Shirai
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
47.
Process optimization and interface control in chemical vapor deposition of high dielectric constant thin films
机译:
高介电常数薄膜化学气相沉积过程优化与界面控制
作者:
Y. Gao
;
C. L. Perkins
;
M. A. Henderson
;
J. W. Rogers Jr.
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
48.
Breaking FAB constraint with implementing feedback process control
机译:
破坏FAB限制,实现反馈过程控制
作者:
Kazuyuki Takagaki
;
Norio Matsumoto
;
Hirotaka Idera
;
Tetsushi Ishijima
;
Yasuo Ueda
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
49.
Analysis TAT reduction by using emission-leakage failure analysis system
机译:
通过使用发射泄漏失效分析系统分析TAT
作者:
Yasuhisa Higuchi
;
Yasumasa Kawaguchi
;
Tatsumi Sakazume
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Emission microscope;
Standby current failure;
Hot carrier injection mechanism;
Inverted confocal laser microscope;
50.
The study of fluorine-doped silicon dioxide (FSG) films property after alloy for different film deposition temperature for sub-0.18μm logic yield improvement
机译:
不同薄膜沉积温度的合金后氟掺杂二氧化硅(FSG)薄膜性能研究亚018μm逻辑产量改进
作者:
S. A. Wu
;
Y. L. Wang
;
Y. L. Cheng
;
J. K. Wang
;
G. C. Wang
;
M. H. Yo
;
C. T. Lee
;
Tim Lu
;
Steve Wang
;
Joe Li
;
Chenson Lai
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Fluorine-doped silicon dioxide (FSG);
Thermal alloy for different film deposition temperature;
51.
A novel compact ECD tool for ULSI Cu metallization
机译:
用于Ulsi Cu金属化的新型紧凑型ECD工具
作者:
Manabu Tsujimura
;
Koji Mishima
;
Junji Kunisawa
;
Natsuki Makino
;
Tetsuo Matsuda
;
Hisashi Kaneko
;
Katsuya Okumura
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
ECD;
Cu metallization;
Porous ceramic;
52.
Productivity improvement for dry etch equipment through the application of simulation
机译:
通过模拟应用干燥蚀刻设备的生产力改进
作者:
Sandro Pampel
;
Jorg Domaschke
;
Harald Jetter
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Clustertools;
Simulation;
Productivity enhancement;
53.
High controllability and low cost APM process by one-bath type wet-bench for multi gate oxide pre-cleaning
机译:
多栅氧化物预清洗的一浴型湿直凳高可控性和低成本APM工艺
作者:
Tatsuya Suzuki
;
Hiroyuki Kunishima
;
Tomoko Wake
;
Shinichi Chikaki
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Multi-gate oxide;
APM;
One-bath type wet-bench;
Etching rate controllability;
Cost;
Performance;
54.
Development of a new ultrasonic liquid flowmeter for very low flow rate applicable to a thin pipe
机译:
开发新的超声波液体流量计,用于非常低的流量适用于薄管
作者:
Hiroaki Ishikawa
;
Masaki Takamoto
;
Kazuyoshi Shimizu
;
Hideaki Monji
;
Goichi Matsui
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Ultrasonic flowmeter;
Flow rate;
Cross correlation;
Zero point drift;
55.
The short-loop process tuning yield evaluation by using the addressable failure site test structures (AFS-TS)
机译:
使用可寻址故障现场测试结构(AFS-TS)的短路过程调整和产量评估
作者:
Kelvin Yih-Yuh Doong
;
Sunnys Hsieh
;
Sheng-Che Lin
;
Binson Shen
;
Charles Ching-hsiang Hsu
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Test vehicle design;
Unit process development;
Process control monitoring;
56.
Sub 0.2μm lithography on 300mm wafer
机译:
300mm晶片上的0.2μm光刻
作者:
Dietmar Ganz
;
Alain Charles
;
Steffen R. Hornig
;
Gunther Hraschan
;
Wolfram Koestler
;
John Maltabes
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
DUV lithography;
300mm wafer exposure tools;
Overlay;
Critical dimensions;
57.
TYM system: an integrated tool for inherent line yield improvements for entire fab
机译:
TYM系统:整个工厂的固有线产生改进的集成工具
作者:
Cohen Aloni
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
58.
Implementation requirements for edge exclusion area reduction for maximized output of chips from a 200mm wafer
机译:
边缘排除面积的实施要求降低了200mm晶圆的最大化芯片输出
作者:
Kawashima
;
Shinichi
;
Nukii Susumu
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
59.
Utilization of quartile analysis in process control
机译:
过程控制中四分位数分析的利用
作者:
Adel El-Sayed
;
Clint Montgomery
;
Steve Jenkins
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Quartile analysis;
Passive data;
Process control via;
Contact;
Ti;
TiN;
60.
A next queue algorithm in real time dispatching system of semiconductor manufacturing
机译:
半导体制造实时调度系统中的下一个队列算法
作者:
Ying-Jen Chen
;
Gary Yu
;
Kuo-Sung Huang
;
Ivan Wang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
61.
How do material and information flows impact fab performance?
机译:
材料和信息如何流动影响Fab性能?
作者:
Douglas Scott
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Automation;
Productivity;
Performance;
62.
Embedded trench DRAMs for sub-0.10μm generation by using hemispherical-grain technique and LOCOS collar process
机译:
使用半球形 - 谷物技术和LOCOS领工程,嵌入式沟槽DRAM用于SUB-0.10μm
作者:
Shigehiko Saida
;
Tsutomu Sato
;
Muneharu Sato
;
Masaru Kito
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Trench DRAM;
LOCOS collar;
HSG;
63.
Evaluation of particles on a Si wafer before and after cleaning using a new laser particle counter
机译:
使用新的激光粒子计数器在清洁之前和清洁之前和之后的Si晶片上的粒子的评价
作者:
Satoshi Sasaki
;
Hiroshi An
;
Yuzo Mori Toshiyuki Kataoka
;
Katsuyoshi Endo
;
Haruyuki Inoue
;
Kazuto Yamauchi
;
Shigenori Mizuhara
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Particle sizes;
Nanometer order;
Light scattering method;
Wet cleaning method;
64.
Analysis and implications of residual metal on spacer material in the self-align silicide process for VSLI manufacturing
机译:
VSLI制造自对准硅化物过程中剩余金属对垫片材料的分析与影响
作者:
Patrick L. Smith
;
Tim Hossain
;
Amiya Ghatak-Roy
;
Jin Zhao
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Self-align silicidation;
Bridging;
Spacers material;
65.
On line diagnostics and support as a key part of process module control
机译:
在线诊断和支持作为过程模块控制的关键部分
作者:
Michael Locy
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
66.
Manufacturing strategy of IC industry in Taiwan
机译:
台湾IC产业制造策略
作者:
Chin-Fu Yang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Manufacturing strategy;
IC industry;
Intelligence property right;
Strategic alliance;
67.
Thermomechanical failures in silicon electronic devices
机译:
硅电子设备中的热机械故障
作者:
Vasudeva P. Atluri
;
Lawrence M. Dass
;
Krishna Seshan
;
K. C. Patel
;
Roger W. Stage
;
Thomas P. Alexander
;
Thomas S. Dory
;
Sridhar Balakrishnan
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Silicon;
Thermomechanical;
Assembly;
Plastic;
Organic;
68.
Short cycle killer-particle control based on accurate in-line defect classification
机译:
基于精确的在线缺陷分类的短周期杀伤粒子控制
作者:
Atsushi Shimoda
;
Kenji Watanabe
;
Yuji Takagi
;
Shunji Maeda
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Particle;
Yield impact;
ADC;
69.
Yield analysis and improvement by reducing manufacturing fluctuation noise
机译:
通过减少制造波动噪声的产量分析和改进
作者:
Hidetaka Tsuda
;
Hidehiro Shirai
;
Osamu Takagi
;
Riichiro Take
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
DATA MINING;
More precious correlation;
Reduction of fluctuation noise;
70.
CIM strategy for semiconductor FAB-building blocks approach
机译:
半导体工厂建筑块的CIM策略
作者:
Gurshaman Baweja
;
Bing Ouyang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Automation;
Integration;
CIM application;
71.
Optimized CMP operation by extended X-factor theory including offline unit hour
机译:
通过扩展X因子理论进行了优化的CMP操作,包括离线单位
作者:
Mitsugu Kishimoto
;
Katsutoshi Ozawa
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
X-factor;
Cycle time;
Operator headcount;
72.
Nanometer-scale material analysis using Fourier transform mapping
机译:
纳米级材料分析使用傅里叶变换映射
作者:
Takashi Ide
;
Haruko Tamegai
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Microanalysis;
Microscopy;
Mapping and Fourier;
73.
Application of hydrogenated water to future cooling system
机译:
氢化水在未来冷却系统中的应用
作者:
Ikunori Yokoi
;
Yoshio Yamazaki
;
Toshikazu Abe
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Cost of ownership (CoO);
Hydrogenated;
Oxidation-reduction potential (ORP);
ESH (Environment;
Safety and health);
74.
Advanced wet cleaning using novel nozzle and functional ultrapure water in next generation FPD/LSI manufacturing
机译:
下一代FPD / LSI制造中的新型喷嘴和功能超纯水的先进湿式清洁
作者:
Ken-ichi Mitsumori
;
Haga Nobuaki
;
Norihisa Takahashi
;
Takashi Imaoka
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Cleaning;
Functional ultrapure water;
Ultrasonic BPP-nozzle;
75.
Defect mode classification in logic LSI manufacturing process using I{sub}(DDQ)
机译:
使用i {sub}(ddq)逻辑LSI制造过程中的缺陷模式分类
作者:
Masaru Sanada
;
Kazuo Uehira
;
Eigo Fuse
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
I{sub}(DDQ);
Diagnosis;
Visual abnormalities;
Manufacturing process;
76.
Environmental management activities by NEC electron devices
机译:
NEC电子设备的环境管理活动
作者:
Tadahiko Nozaki
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Environmental management;
Green products;
Environmental accounting;
And zero emission;
77.
Reliability versus yield and die location in deep sub-micron VLSI
机译:
深层微米VLSI中的可靠性与产量和模具位置
作者:
Walter Riordan
;
Russell Miller
;
Jeff Hicks
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Reliability;
Yield;
Burn-in;
Traceability;
Fuse;
78.
Critical issues in post Cu CMP cleaning
机译:
CU CMP清洁后的关键问题
作者:
W. Fyen R. Vos
;
I. Teerlinck
;
S. Lagrange
;
J. Lauerhaas
;
M. Meuris
;
P. Mertens
;
M. Heyns
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
CMP;
Cleaning;
Cu;
Post-CMP;
HF;
79.
The effective method of reducing slurry for interlayer dielectric CMP
机译:
减少层间电介质CMP浆料的有效方法
作者:
Kohichi Ishimoto
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
ILD CMP;
Slurry consumption;
Self-polish stop;
80.
Optimization of post N{sub}2 treatment USG cap layer to improve tungsten peeling defects for deep sub-micron device yield improvement
机译:
优化N {Sub} 2治疗和USG帽层,改善深层亚微米装置的钨剥离缺陷产量改进
作者:
Y. L. Cheng
;
Y. L. Wang
;
S. A. Wu
;
H. L. Wang
;
J. K. Wang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
High density plasma;
N{sub}2 treatment;
Tungsten peeling;
Flurosilicate glass (FSG);
81.
Simultaneous cycle-time reduction and output enhancement in a fully loaded foundry wafer fab
机译:
完全加载的铸造晶片Fab中的同时循环时间减小和输出增强
作者:
C. M. Ho
;
T. C. Chen
;
P. Hseih
;
C. Chu
;
E. Houn
;
K. J. Su
;
P. M. Wang
;
W. C. Yew
;
S. W. Sun
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
82.
Capturing expert knowledge
机译:
捕获专家知识
作者:
Frank J. Sanchez
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Critical task;
Best known method;
Key learnings;
Video analysis;
83.
High reliability interconnect technology with tungsten-barrier metal in next generation
机译:
高可靠性互连技术与下一代钨障金属
作者:
Reijiroh Shohji
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Tungsten-barrier metal;
WF{sub}6 attack;
High via resistance;
Residual polymer;
84.
Control of behavior of particles flaked off an anode in plasma etch-back equipment by bias electrode
机译:
通过偏置电极控制颗粒的行为从等离子体蚀刻设备中的阳极剥落
作者:
Tsuyoshi Moriya
;
Natsuko Ito
;
Fumihiko Uesugi
;
Yuji Hayashi
;
Koji Okamura
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Particle free;
Bias electrode;
Laser light scattering;
Plasma etching;
Positively charged flaked particle;
85.
Implementation of a carbon doped low-k material for 0.18 micron technology
机译:
用于0.18微米技术的碳掺杂低k材料的实施
作者:
Wei-Jen Hsia
;
Wilbur Catabay
;
Michael Lu
;
D. C. Perng
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
86.
Reflow of AlCu into vias during CVD TiN barrier deposition
机译:
Alcu回流CVD锡屏障沉积期间的VEA
作者:
Antonietta Oliva
;
Adel El-Sayed
;
Al Griffin
;
Clint Montgomery
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
CVD TiN;
Collimated Ti;
Via;
AlCu extrusion;
87.
Statistical analysis and design of semiconductor manufacturing systems
机译:
半导体制造系统的统计分析与设计
作者:
Argon Chen
;
R. -S. Guo
;
Puffy Lin
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Manufacturing control;
Robust design;
Statistical process control;
88.
Ultra clean process gas recycling system for plasma process using krypton and xenon
机译:
使用Krypton和Xenon的等离子体工艺超细处理气体回收系统
作者:
Ichiro Ohshima
;
Yoshio Ishihara
;
Isao Akutsu
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
89.
Real time in-situ data acquisition using autonomous on-wafer sensor arrays
机译:
使用自主晶圆传感器阵列的实时原位数据采集
作者:
Mason Freed
;
Michiel Kruger
;
Kameshwar Poola
;
Costas Spanos
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Sensor wafer;
Autonomous operation;
In-situ data acquisition;
Wireless communication;
90.
Approach for environmental standard with etch tools
机译:
蚀刻工具的环境标准方法
作者:
Kazuo Fukasawa
;
Toshihiko Kitoku
;
Atsushi Kobayashi
;
Yusuke Hirayama
;
Masashi Saito
;
Kazuya Nagaseki
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Intermittent operation;
New refrigeration unit;
Gas circulation RIE;
91.
Transforming Intel factories from global presence to global operation!
机译:
将英特尔工厂从全球出现转变为全球运营!
作者:
Robert J. Montoya
;
Gary Williams
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Global;
Factory;
Operation;
92.
Module optimization modeling with discrete event simulation
机译:
模块优化建模与离散事件仿真
作者:
Robert Z. Bachrach
;
Mark Pool
;
Raja Sunkara
;
Ben Pang
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Modeling;
Module;
Productivity;
93.
The world's first 300mm fab at Infineon - challenges and success
机译:
Infineon的世界上第一个300mm Fab - 挑战和成功
作者:
Peter Kucher
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
94.
Achieving stretched capacity goal through integrated engineering and manufacturing excellence
机译:
通过综合工程和制造卓越实现拉伸的能力目标
作者:
Reginald See Theam Kwooi
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Machine utilization;
95.
Hot-wall batch-type CVD tool for high-k (Ba,Sr)TiO{sub}3 capacitors
机译:
用于高k(BA,SR)TIO {SUB} 3电容器的热壁批量型CVD工具
作者:
M. Kiyotoshi
;
S. Yamazaki
;
J. Nakahira
;
K. Eguchi
;
K. Hieda
;
H. Yamamoto
;
T. Umehara
;
K. Hasebe
;
T. Asano
;
K. Nakao
;
T. Arikado
;
K. Okumura
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
BST;
Capacitor;
DRAM;
Hot-wall CVD;
96.
A framework model for fab agility and 25 ways to be agile
机译:
Fab Agiility的框架模型和25种敏捷方式
作者:
Uri Arazy
;
Yaacov De Russo
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Agility;
Business changes;
97.
Petri Net simulation of manufacturing systems considering multiple machines, operators, and maintenance for a product-mix
机译:
考虑多台机器,操作员和维护产品 - 混合的制造系统的Petri净仿真
作者:
Sumika Arima
;
Kazuyuki Saito
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Petri Net;
Discrete event simulation;
Availability;
Machine utilization;
98.
Novel coating apparatus using nozzle-scan technique
机译:
采用喷嘴扫描技术的新型涂布装置
作者:
Takahiro Kitano
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Scan coating;
Material consumption;
Topological wafer;
99.
Offline analysis techniques for the improvement of defect inspection recipes
机译:
用于改进缺陷检测配方的离线分析技术
作者:
Satyavolu S. Papa Rao
;
Richard Guldi
;
James Garvin
;
Sudtida Lavangkul
;
David Curran
;
Robin Worley
;
Jesse Hightower
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
关键词:
Offline image-processing analysis;
SAT/RAT inspection recipes;
Don's-care areas;
Reticle-defect-design database correlation;
100.
The most effective method for reducing PFC emissions caused by PECVD cleaning using the chamber impedance monitor
机译:
使用腔室阻抗显示器减少PECVD清洁引起的PFC排放的最有效方法
作者:
Tetsuya Yoda
;
Masao Shimizu
会议名称:
《IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2001年
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