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通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法

摘要

一种通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法,此方法包括对具有光阻图案的一个基底依序进行一个曝光步骤与一个曝光后烘烤步骤,使光阻图案表面活性化。接着,在光阻图案的表面覆盖一层材料层,此材料层会与光阻图案表面产生交联反应形成一层修补层,而填补光阻图案的凹凸不平区域。

著录项

  • 公开/公告号CN1207757C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;

    申请/专利号CN01129600.3

  • 发明设计人 林顺利;谢季芳;

    申请日2001-06-28

  • 分类号H01L21/027;G03F7/20;

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王学强

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区力行路16号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/027 授权公告日:20050622 终止日期:20190628 申请日:20010628

    专利权的终止

  • 2005-06-22

    授权

    授权

  • 2005-06-22

    授权

    授权

  • 2003-11-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-11-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-01-29

    公开

    公开

  • 2003-01-29

    公开

    公开

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