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公开/公告号CN102386173B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-09-28
原文格式PDF
申请/专利权人 泰塞拉公司;
申请/专利号CN201110370722.2
发明设计人 B·哈巴;V·奥加涅相;
申请日2007-10-09
分类号
代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人宋融冰
地址 美国加利福尼亚
入库时间 2022-08-23 09:47:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-09-28
授权
2012-05-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 25/065 申请日:20071009
实质审查的生效
2012-03-21
公开
机译: 晶片级透镜组件的制造方法和由该晶片级透镜组件制造的晶片级透镜组件
机译: 制造晶片级透镜组件的方法和由该晶片级透镜制造的晶片级透镜组件
机译: 晶片级透镜组件的制造方法以及由该晶片级透镜组件制造的晶片级透镜组件
机译:水滴运动能量收割机,具有晶片级制造方法
机译:用于制造粒子数参考晶片级的晶片表面检查装置的校准程序 -
机译:硅晶片的基于研磨的制造方法:晶片表面的分解分析
机译:使用SOI盖晶片的SOI-MEMS器件的新颖制造和晶片级气密密封方法
机译:用于微电子封装的顺序多层高密度基板制造的集成工艺建模方法学和模块。
机译:微侵袭性医疗设备全组装金属微机构的晶片级固态自由形式制造
机译:基于研磨的硅晶片制造方法:晶片表面的分解分析
机译:1998年罗切斯特大学激光能量学实验室高中三年级青少年研究项目:学生研究报告使用实验设计方法优化聚合物胶囊制造。