用于处理晶圆的反应装置、静电吸盘和晶圆温度控制方法

摘要

本发明公开了一种用于处理晶圆的反应装置、静电吸盘和晶圆温度控制方法，涉及半导体工艺技术领域。该静电吸盘包括用于支撑晶圆的绝缘层；和能够安装于所述绝缘层的第一表面上方的光束源。光束源的光束的方向和输出功率可调整。与流体冷却系统配合，通过控制光束源的方向和输出功率来调节被吸附在ESC上面的晶圆的温度，从而能够更好地调整温度的不一致性，可以大大提高晶圆温度一致性，特别是改善非径向温度不一致性。