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用于控制等离子体处理室中的等离子体的方法和装置

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公开了用于控制具有至少一个电感耦合等离子体(ICP)处理室的等离子体处理系统中的等离子体的方法和装置。ICP室中至少使用第一/中心射频线圈、相对于第一/中心射频线圈同心地设置的第二/边缘射频线圈、和至少具有第三/中部射频线圈的射频线圈组，第三/中部射频线圈相对于第一/中心射频线圈和第二/边缘射频线圈以使第三/中部射频线圈被设置在第一/中心射频线圈与第二/边缘射频线圈之间的方式同心地设置。在处理期间，在相同方向上将射频电流提供给第一/中心射频线圈和第二/边缘射频线圈，同时在相反方向上(相对于提供给第一/中心射频线圈和第二/边缘射频线圈的电流的方向)将射频电流提供给第三/中部射频线圈。

著录项

公开/公告号CN104220636B

专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-24

原文格式PDF
申请/专利权人朗姆研究公司;
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申请/专利号CN201380018698.3
发明设计人西奥多罗斯·帕纳戈普路斯;约翰·霍兰;亚历克斯·帕特森;
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申请日2013-03-22
分类号C23C16/455(20060101);
代理机构31263 上海胜康律师事务所;
代理人李献忠
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 09:45:30

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-08-24

授权

授权
2015-01-07

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20130322

实质审查的生效
2014-12-17

公开

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