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SatoN; 晨亮;
不详;
低损伤; 等离子体处理; 离子能量控制; 射频放电;
机译:高密度和低损伤CF4 - 等离子体处理的IGZO薄膜晶体管的增强压电触觉感应行为(VDF-TRFE)共聚物涂覆
机译:用于低能量离子注入的RF离子源-使用500 MHz放电控制大面积离子源的束轮廓
机译:能量控制的CH4 / H2 RF放电等离子体中沉积在镍/铜颗粒之间的金刚石颗粒
机译:电容耦合低射频放电中聚酯纤维网的等离子体处理
机译:用于等离子体处理的RF放电的建模和仿真
机译:聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的等离子体处理和壳聚糖沉积:直流放电与交流放电
机译:能量控制的CH 4 sub> / H 2 sub> RF放电等离子体中沉积在镍/铜颗粒之间的金刚石颗粒
机译:离子能量分布在氯和三氯化硼的混合物中的电感耦合RF放电中起作用
机译:等离子体处理中离子的产生与输送中的微喷射能量低的方法及装置
机译:用于消除基板的等离子体处理中的损伤的等离子体处理方法和装置
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