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声明
第一章绪 论
§1.1研究背景
§1.2本课题组的主要研究内容
§1.3本文的研究内容
第二章实验样品的制备及性能表征方法
§2.1 SiCOH薄膜的制备
2.1.1微波电子回旋共振等离子体原理简介
2.1.2微波ECR-CVD沉积系统
2.1.3实验参数
§2.2 SiCOH薄膜的O2等离子体处理
§2.3 Cu薄膜的制备与热应力(thermal stress)实验
§2.4电容-电压(C-V)、电流-电压(I-V)分析
§2.5 SiCOH薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征方法
§2.6 SiCOH薄膜表面形貌的原子力显微镜表征
第三章SiCOH薄膜中的Cu扩散分析
§3.1 Cu/SiCOH/Si体系的漏电流分析
§3.2 Cu/SiCOH/Si体系的C-V分析与平带电压漂移
§3.3 Cu/SiCOH/Si体系的热应力实验与激活能分析
第四章Cu扩散降低的SiCOH薄膜结构关联
§4.1 Cu扩散的降低与SiCOH薄膜键结构的关系
§4.2 Cu扩散的降低与薄膜表面形貌的关系
第五章结论
§5.1本文的主要结果
§5.2存在的主要问题和进一步的研究方向
参考文献
攻读学位期间公开发表的论文
致谢
苏州大学;