公开/公告号CN215517629U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-14
原文格式PDF
申请/专利权人 安徽光智科技有限公司;
申请/专利号CN202122181578.X
申请日2021-09-10
分类号C23C16/54(20060101);C23C16/30(20060101);C23C16/455(20060101);
代理机构11421 北京天盾知识产权代理有限公司;
代理人肖小龙
地址 239064 安徽省滁州市琅琊经济开发区南京路100号
入库时间 2022-08-23 03:55:34
机译: 化学气相沉积(CVD)反应器的处理腔室以及在该腔室中进行的热化过程
机译: 化学气相沉积(CVD)反应器的处理腔室以及在该腔室中进行的热化过程
机译: 化学气相沉积(CVD)反应器的处理腔室以及在该腔室中进行的热化过程