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化学气相沉积室; 钝化方法; 湿式清洗; 就地清洗; 调理;
机译:使用电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术的GaN / AlGaN HEMT钝化性能分析
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机译:光照对单晶硅表面钝化的影响,该单晶硅表面被沉积有等离子体增强化学气相沉积SiN_x的原子层沉积Al_2O_3钝化
机译:等离子体增强化学气相沉积氮化硅沉积电力沉积功率表面钝化的影响
机译:II-VI半导体的金属有机化学气相沉积,用于HgCdTe红外探测器的表面钝化。
机译:Robofurnace:半自动化实验室化学气相沉积系统用于高通量纳米材料合成和过程发现
机译:si钝化和化学气相沉积氮化硅
机译:有机器件制造装置的气相沉积室的评估方法标准掩模装置和标准衬底的标准掩模装置制造方法有机器件制造装置具有通过评估方法评价的气相沉积室,通过评估方法,该有机装置具有通过评估评估的气相沉积室中形成的气相沉积层。 有机器件制造装置的方法和气相沉积室维持方法
机译:用于化学气相沉积设备的反应室和使用该反应室的化学气相沉积设备
机译:将处理气体引入用于等离子体辅助化学气相沉积的处理室中的方法和用于等离子体辅助化学气相沉积的装置
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