机译:有机器件制造装置的气相沉积室的评估方法标准掩模装置和标准衬底的标准掩模装置制造方法有机器件制造装置具有通过评估方法评价的气相沉积室,通过评估方法,该有机装置具有通过评估评估的气相沉积室中形成的气相沉积层。 有机器件制造装置的方法和气相沉积室维持方法
公开/公告号KR20210116310A
专利类型
公开/公告日2021-09-27
原文格式PDF
申请/专利权人 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤;
申请/专利号KR20210032418
申请日2021-03-12
分类号H01L51;C23C14/04;C23C14/24;G01N21/84;H01L51/56;
国家 KR
入库时间 2022-08-24 21:17:45