机译:气相沉积面膜,具有框架的气相沉积面膜,气相沉积面膜制备体,图案形成方法,气相沉积面膜的制造方法,有机半导体元件的制造方法以及有机电子发光的制造方法
公开/公告号JP2019108584A
专利类型
公开/公告日2019-07-04
原文格式PDF
申请/专利权人 DAINIPPON PRINTING CO LTD;
申请/专利号JP2017242039
申请日2017-12-18
分类号C23C14/04;C23C16/04;H05B33/10;H01L51/50;H01L27/32;G09F9/30;G09F9;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 12:23:29