机译:用于有机装置的制造装置沉积室的评价方法,标准掩模装置和评估方法的标准衬底,标准掩模装置的制造方法,以及通过沉积层评估的有机装置评价的气相沉积室的有机装置的制造装置 形成在评估方法中评估的沉积室,以及有机装置制造装置的沉积室的维护方法
公开/公告号JP2021175824A
专利类型
公开/公告日2021-11-04
原文格式PDF
申请/专利权人 大日本印刷株式会社;
申请/专利号JP20210032139
申请日2021-03-01
分类号C23C14/54;C23C14/04;H05B33/10;H01L51/50;
国家 JP
入库时间 2022-08-24 22:06:20