一种抛光过程中脉冲换液的化学机械抛光平台

摘要

本实用新型公开了一种抛光过程中脉冲换液的化学机械抛光平台，通过在抛光盘的外围设置与其滑动配合的可升降环形挡板，并在抛光垫上设置一向抛光件倾斜的导液条，由此，在滴液前可驱动环形挡板上升以避免研磨液被甩出抛光垫外，减少研磨液损耗，并通过导液条将抛光垫外环及边缘的新鲜研磨液导向抛光件，提高研磨液的利用率；同时采用脉冲式滴液管供应研磨液，在抛光结束时可驱动环形挡板下降以排除使用过的研磨液，再由脉冲式滴液管在环形挡板二次上升的同时补充新的研磨液，以此避免在工业抛光中研磨液中杂质越累越多的问题，降低杂质对抛光的影响。