法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-10
授权
授权
2014-06-04
实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/03 申请日:20120629
实质审查的生效
2013-01-02
公开
公开
机译: 用于x射线成像中的散射辐射校正的方法以及用于该目的的x射线成像系统
机译: 校正用于计算机断层摄影X射线成像的散射辐射的方法,涉及基于辐射分布的估计结果来校正散射辐射,以使校正变量取决于滤波器中的路径长度。
机译: 用于x射线成像中的散射辐射校正的方法以及为此目的的x射线成像系统