机译:校正用于计算机断层摄影X射线成像的散射辐射的方法,涉及基于辐射分布的估计结果来校正散射辐射,以使校正变量取决于滤波器中的路径长度。
公开/公告号DE102011089643A1
专利类型
公开/公告日2013-06-27
原文格式PDF
申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;
申请/专利号DE20111089643
申请日2011-12-22
分类号A61B6/03;A61B6;A61N5/10;G21K1/10;G01T1/29;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 16:22:16