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一种激光钻蚀活化通孔

摘要

本实用新型提供了一种激光钻蚀活化通孔,其激光活化的铜层可以防止二次钻蚀时使得上部通孔孔径差距较大,克服了现有技术中一步直接钻孔导致的通孔上部的孔径过宽,不能满足较大的高宽比的需要;且活化的铜层可以作为后续的电镀的种子层,且通过激光活化的铜层,其表面粗糙度较大,具有很好的附着力。

著录项

  • 公开/公告号CN209199921U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州福唐智能科技有限公司;

    申请/专利号CN201920240272.7

  • 发明设计人 陈洁;

    申请日2019-02-26

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区2幢506

  • 入库时间 2022-08-22 10:06:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-02

    授权

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