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刘霖; 叶玉堂; 陈镇龙; 范超; 吴云峰; 王昱琳;
电子科技大学光电信息学院;
激光电化学腐蚀; 光电子; 半导体化合物; 刻蚀速率; 横向腐蚀;
机译:激光脉冲参数对硅激光诱导电化学刻蚀的影响研究
机译:响应表面法研究SF / sub 6 // He等离子体的刻蚀速率特性:电极间距的影响
机译:飞秒激光脉冲组合对氢氟酸中熔融石英刻蚀速率的影响
机译:电化学疗法电极距离的影响:从数值模型到体外测试
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:吡咯单体的摩尔浓度对高原始PPy柔性电极的聚合速率生长及其电化学行为的影响
机译:退火及退火速率和冷却速率对n-GaAs电极光电化学特性的影响
机译:微电极阵列中可逆氧化还原电偶测量电化学响应的数字模拟:来自近距离间隔超微电极的后果。调整
机译:通过最小化刻蚀速率负载的影响来进行均匀刻蚀的机制
机译:用于测量或影响电或电化学参数的电极装置具有电极,该电极包括多个量子点,这些量子点具有受照明影响的电特性
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