双面光刻机及双面光刻方法

摘要

本发明公开了一种双面光刻机，在同一腔体中包括互为镜像对称的第一激光光路和第二激光光路，载片台为夹式结构，第一激光光路和第二激光光路分别用于对晶圆的正面和背面曝光。本发明还公开了一种双面光刻方法。本发明能够实现在同一腔体中进行双面露光，且双面曝光过程中，晶圆的X和Y方向的位置相同，仅需改变晶圆的Z方向的位置，从而能够避免X和Y方向的镜像误差并提高光刻的套刻精度，实现光刻工艺的精度改善。