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公开/公告号CN103545316B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-06-15
原文格式PDF
申请/专利权人 安阳师范学院;
申请/专利号CN201210597011.3
发明设计人 汤振杰;李荣;
申请日2012-12-31
分类号
代理机构
代理人
地址 455000 河南省安阳市弦歌大道436号
入库时间 2022-08-23 09:40:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-06-15
授权
2014-03-12
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/115 申请日:20121231
实质审查的生效
2014-01-29
公开
机译: 带隙控制的存储器,包括多个电荷陷阱层存储电荷
机译: 带隙工程化的存储器,包括用于存储电荷的多个电荷陷阱层
机译: 两晶体管或体系结构中的带隙工程电荷陷阱存储器
机译:通过使用电荷陷阱层的带隙工程,利用Al2O3电介质改善了电荷陷阱型闪存的性能
机译:电荷陷阱层的带隙工程提高了SONOS存储器的性能
机译:具有全方位栅多晶硅纳米线和HfAlO陷阱层的新型电荷陷阱型存储器
机译:Sonos型非易失性存储器中的超均匀阈值电压,具有等离子体氮化形成的新型电荷陷阱层
机译:基于氮化物的局部电荷陷阱非易失性存储器件的阈值电压不稳定性。
机译:陷阱辅助电荷注入到大带隙聚合物半导体中
机译:Ga2O3(Gd2O3)作为非易失性存储器应用的电荷陷阱层
机译:n型InGaas / Gaas应变单量子阱的带隙能量和导带质量的压力依赖性