公开/公告号CN204836090U
专利类型实用新型
公开/公告日2015-12-02
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州英诺迅科技股份有限公司;
申请/专利号CN201520451482.2
申请日2015-06-29
分类号H03F1/02(20060101);H03F1/30(20060101);H03F3/20(20060101);
代理机构32103 苏州创元专利商标事务所有限公司;
代理人范晴
地址 215123 江苏省苏州市工业园区林泉街399号
入库时间 2022-08-22 00:58:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-12-02
授权
授权
机译: 在Si(111)/(001)SOI衬底或Si(001)/(111)SOI衬底上连续生长GaN和GaAs表象层的方法以及使用在Si(111)上连续形成的GaN和GaAs表象层的半导体发光器件模块)/(001)由此制造的SOI基板
机译: 功率放大器的控制方法,装置,GAN功率放大器和GAAS功率放大器
机译: 用于非整合体LDMOS和基于LDMOS的横向IGBT的硅化物块环主体布局