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基于6英寸硅片工艺的静电防护功率MOS器件

摘要

基于6英寸硅片工艺的静电防护功率MOS器件,包括硅片本体和硅片本体上的栅极,栅极与硅片本体之间具有绝缘层,位于绝缘层下方两侧的源极和漏极,及位于源极和漏极周围及下方的外延层,靠近源极的漏极外侧及漏极下方设置有漂移区,所述漂移区掺杂浓度低于漏极,所述漂移区上方未覆盖有栅极,所述漏极靠近栅极一端设置有覆盖在漏极表面的硅化金属层。本实用新型通过在漏极部分或全部覆盖硅化金属层,减小漏极表面的电阻率,增大了栅极到漏极的电容,在作为静电防护器件时有利于MOS管的导通,同时由于漏极接触电阻减小,泄放静电的能力进一步得到增强。

著录项

  • 公开/公告号CN203950810U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2014-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 四川广义微电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201420348654.9

  • 发明设计人 崔永明;张干;王作义;彭彪;

    申请日2014-06-27

  • 分类号

  • 代理机构成都行之专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人梁田

  • 地址 629000 四川省遂宁市经济技术开发区内(东临核心区、西临泰吉路、南临产业示范区、北至水库都市新村)

  • 入库时间 2022-08-22 00:20:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-11-19

    授权

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