法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-25
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C21B13/00 授权公告日:20130605 终止日期:20151207 申请日:20121207
专利权的终止
2013-06-05
授权
授权
机译: 中空棱晶硅锭生产用锅,中空棱晶硅锭的生产方式和等离子蚀刻装置用部件的生产方式,是用于中空棱晶硅锭的生产设备和
机译: 中空棱晶硅锭生产用锅,中空棱晶硅锭的生产方式和等离子蚀刻装置用部件的生产方式,是用于中空棱晶硅锭的生产设备和
机译: 一种制造硅单晶锭的装置,一种使用该装置的制造方法,一种硅单晶锭和一种使用该装置的硅晶片的方法