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MOS晶体管的栅极电压-1/f噪声曲线测量方法

摘要

一种MOS晶体管的栅极电压-1/f噪声曲线测量方法,包括:提供待检测的MOS晶体管;测量在指定栅极电压区间内的MOS晶体管栅极电压-漏极电流的变化曲线;将所述栅极电压区间划分成至少2个分区间,比较分区间的漏极电流的变化趋势,在各个分区间内选取多个栅极电压值,且漏极电流的变化趋势大的分区间内选取的栅极电压值数量大于漏极电流的变化趋势小的分区间内选取的栅极电压值数量;测量选取的栅极电压值对应的1/f噪声,根据获得的1/f噪声获得在对应栅极电压区间的栅极电压-1/f噪声曲线。通过测量不同栅极电压下漏极电流的变化趋势,并根据漏极电流的变化趋势选取若干栅极电压,可减少测量1/f噪声次数,减少测试时间。

著录项

  • 公开/公告号CN102435817B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201110335639.1

  • 发明设计人 路向党;

    申请日2011-10-28

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人骆苏华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 09:38:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-04

    授权

    授权

  • 2014-04-30

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G01R 19/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20140403 申请日:20111028

    专利申请权、专利权的转移

  • 2014-01-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R 19/00 申请日:20111028

    实质审查的生效

  • 2012-05-02

    公开

    公开

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