用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法

摘要

本发明涉及一种用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法，属于化学机械平坦化领域，特别涉及超硬材料的化学机械平坦化技术领域。本发明的抛光垫包括抛光垫基材和催化剂，抛光垫基材肖氏硬度为60-90、压缩率为3.0-10.0%，抛光垫基材结构为绒毛状、毛囊状和丝瓜络状中的一种或几种的组合；催化剂的粒径为1-1000纳米，并固结于抛光垫基材表面。本发明的催化剂固结型抛光垫，成功地解决了碳化硅、氮化镓等超硬材料晶片平坦化去除速率低、表面缺陷多以及表面粗糙度大等技术难点，能够显著提高去除速率，并获得晶片的超光滑表面，表面粗糙度Ra均达到亚纳米级。