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工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机

摘要

本发明提出一种工件台与掩模台公用的平衡质量系统,这种平衡质量系统,包括平衡质量体以及平衡质量体防漂及补偿装置,所述平衡质量体包括用于安装工件台系统的平衡质量体的工件台部分、用于安装掩模台系统的平衡质量体的掩模台部分以及平衡质量体的连接部分,所述平衡质量体的工件台部分与所述平衡质量体的掩模台部分通过所述平衡质量体的连接部分连接,所述平衡质量体的工件台部分悬浮支撑于基础框架上,所述平衡质量体的连接部分通过所述平衡质量体防漂及补偿装置与所述基础框架相连,所述平衡质量体防漂及补偿装置靠近整个所述平衡质量体的重心位置设置。本发明能够节省掩模台系统的外部支架,减小整机的体积和重量,以及较少所需平衡质量的质量,使得整体结构更加紧凑。

著录项

  • 公开/公告号CN103809384B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201210451784.0

  • 发明设计人 王天明;

    申请日2012-11-12

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:36:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20121112

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-03-09

    授权

    授权

  • 2014-06-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20121112

    实质审查的生效

  • 2014-05-21

    公开

    公开

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