光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真

摘要

光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位.掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率.本文介绍了运动控制中常用的三环PID控制方法.此方法易于调试,控制精度高.分析了磁悬浮平台结构的摩擦阻力特性.通过实验测试及系统辨识得到控制系统传递函数模型后,进行仿真分析,确定了控制器参数.在控制系统中加入扰动信号进行仿真,证明系统在扰动存在下,控制可以达到预期纳米级精度.