扫描光刻机硅片台五自由度激光测量模型

摘要

分析激光测量系统进行硅片台位置测量的工作原理, 并针对系统特点, 研究影响测量精度的误差因素, 包括: 阿贝与余弦误差、激光波长的影响、延时误差和镜面不平度等. 建立一种五自由度激光测量模型以实现六轴激光原始干涉条纹到硅片台坐标位置的精确转换, 并设计相应算法对测量过程中的误差因素予以补偿, 为硅片台的超精密运动控制实现提供基础. 该测量模型已在扫描型光刻机中得到成功应用.