法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-12-02
授权
授权
2014-04-23
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20131226
实质审查的生效
2014-03-26
公开
公开
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 一种具有高脉冲能量和高平均功率的脉冲激光辐射增强装置