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夏原; 高方圆; 李光;
中国科学院力学研究所,北京100190;
HIPIMS; HPPMS; 等离子体动力学; 放电特性; 高离化率;
机译:高功率脉冲磁控溅射沉积的Ti膜基板等离子体鞘特性的影响
机译:用于TiCrsin薄膜沉积的混合高功率脉冲和射频磁控溅射系统:等离子体特性和薄膜性能
机译:一种有效的证据和测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的金属离子部分用PT,AU,Pd和混合靶标测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)
机译:AR流量控制高功率脉冲磁控溅射的延迟放电和等离子体排放特性
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:高功率脉冲磁控溅射
机译:脉冲功率幅值对高功率脉冲等离子体增强化学气相沉积等离子体特性和薄膜沉积的影响
机译:Cpa Vulcan脉冲的预制等离子体研究:1。相互作用研究的血浆特征研究进展。 2.通过低密度等离子体传播超短脉冲
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
机译:实现高密度,高SP3含量的高功率脉冲磁控溅射工艺
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