机译:用于TiCrsin薄膜沉积的混合高功率脉冲和射频磁控溅射系统:等离子体特性和薄膜性能
Chang Gung Univ Div Chem Ctr Gen Educ Taoyuan Taiwan;
Natl Taipei Univ Technol Inst Mat Sci &
Engn Taipei Taiwan;
Natl Taipei Univ Technol Inst Mat Sci &
Engn Taipei Taiwan;
Ming Chi Univ Technol Dept Mat Engn New Taipei Taiwan;
Ming Chi Univ Technol Dept Mat Engn New Taipei Taiwan;
TiCrSiN films; High power impulse magnetron sputtering; Radio frequency magnetron sputtering; Energy resolving mass spectrometer;
机译:用于TiCrsin薄膜沉积的混合高功率脉冲和射频磁控溅射系统:等离子体特性和薄膜性能
机译:反应性大功率脉冲和射频磁控溅射制备Co_3O_4纳米薄膜的电,光和催化性能的比较研究
机译:Cu的作用对由高功率脉冲磁控溅射和脉冲DC磁控溅射组合的混合系统沉积的TIB2膜微观结构和性能
机译:沉积温度和氢等离子体对ZnO-Al_2O_3薄膜射频磁控溅射沉积性能的影响
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜