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陈畅子; 马东林; 李延涛; 冷永祥;
西南交通大学材料科学与工程学院 材料先进技术教育部重点实验室 成都 610031;
荆楚理工学院机械工程学院 荆门 448000;
高功率脉冲磁控溅射; 等效电路; 整体模型; 离化率;
机译:高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能%高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能
机译:在Pt,Au,Pd和混合靶材放电后高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)中证明和测量金属离子分数的有效方法
机译:使用各种靶材的大功率脉冲磁控溅射的放电和沉积特性
机译:AR流量控制高功率脉冲磁控溅射的延迟放电和等离子体排放特性
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:高功率脉冲磁控溅射中靶材对电流脉冲的影响
机译:高功率ECR离子推力器放电特性
机译:用于通过在真空室内通过等离子体形成在基板上形成涂层的光学装置,包括脉冲激光束,该脉冲激光束被定向用于点燃圆柱形靶材表面上的电弧放电
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
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