电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射沉积装置及方法

摘要

电‑磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射沉积装置及方法，属于镀膜技术领域。为了解决目前高功率脉冲磁控溅射方法存在的电子利用率低，镀膜时沉积速率低以及系统粒子的离化率有待进一步提高的问题。所述沉积装置在阴极磁控靶外侧缠绕励磁线圈，直流恒流电源为阴极磁控靶外侧励磁线圈提供连续可调的电流，辅助阳极放置在真空室内，直流恒压电源为真空室内的辅助阳极提供连续可调的电压；所述沉积装置的沉积方法利用同轴的励磁线圈优化阴极磁控靶前磁场分布，同时利用辅助阳极调控真空室内电场/电势分布，可实现对电子的定向牵引和约束，进而可达到改善高功率脉冲磁控溅射技术电子利用率和沉积速率并进一步提高系统粒子离化率的目的，沉积出优质的膜层。本发明用于镀膜技术领域。