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电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射沉积装置及方法

摘要

电‑磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射沉积装置及方法,属于镀膜技术领域。为了解决目前高功率脉冲磁控溅射方法存在的电子利用率低,镀膜时沉积速率低以及系统粒子的离化率有待进一步提高的问题。所述沉积装置在阴极磁控靶外侧缠绕励磁线圈,直流恒流电源为阴极磁控靶外侧励磁线圈提供连续可调的电流,辅助阳极放置在真空室内,直流恒压电源为真空室内的辅助阳极提供连续可调的电压;所述沉积装置的沉积方法利用同轴的励磁线圈优化阴极磁控靶前磁场分布,同时利用辅助阳极调控真空室内电场/电势分布,可实现对电子的定向牵引和约束,进而可达到改善高功率脉冲磁控溅射技术电子利用率和沉积速率并进一步提高系统粒子离化率的目的,沉积出优质的膜层。本发明用于镀膜技术领域。

著录项

  • 公开/公告号CN110295352A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东北林业大学;

    申请/专利号CN201810250398.2

  • 发明设计人 李春伟;

    申请日2018-03-23

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150040 黑龙江省哈尔滨市香坊区和兴路26号

  • 入库时间 2024-02-19 13:03:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-01

    公开

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