机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜
Hydrides; Thin films; β-Ta; α-Cr; High power impulse magnetron sputtering; Direct current magnetron sputtering;
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜
机译:直流磁控溅射沉积沉积的备用合金薄膜中微结构和磁性的比较和高功率脉冲磁控溅射
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射沉积(AlCrNbSiTiV)N膜的结构和摩擦学行为
机译:通过直流反应磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射(Hipims),织地织地织地造成的ALN薄膜的生长沉积在Si(100)上沉积在Si(100)上
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜