法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-22
授权
授权
2016-01-13
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20150922
实质审查的生效
2015-12-16
公开
公开
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 底部覆盖率得到改善的钨薄膜的大功率脉冲磁控溅射物理气相沉积