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用于光刻曝光中的光强调节装置及光强调节方法

摘要

本发明提供一种用于光刻曝光中的光强调节装置,包括:汞灯光源,位于灯室内,用于提供该光刻装置的光源;可动反射镜组,位于灯室出光口处,包括至少一个可动镜片,用于汇聚所述光源的散射光束;能量传感器,用于测量所述基底表面的光功率;控制器,用于信号检测、运算以及发送命令;所述控制器与所述汞灯光源、所述可动反射镜组以及所述能量传感器连接,所述汞灯光源发出的散射光束经所述可动反射镜组后进入所述后继光路。

著录项

  • 公开/公告号CN103676483B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-09-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201210319549.8

  • 发明设计人 罗闻;孙智超;

    申请日2012-09-03

  • 分类号

  • 代理机构北京连和连知识产权代理有限公司;

  • 代理人王光辉

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-28

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20120903

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2015-09-30

    授权

    授权

  • 2014-04-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20120903

    实质审查的生效

  • 2014-03-26

    公开

    公开

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