退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
唐雄贵; 郭永康; 杜惊雷; 温圣林; 刘波; 罗伯靓; 董小春;
四川大学,物理科学与技术学院,四川,成都,610064;
中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;
厚胶光刻; 光化学反应; 光强; 动力学模型;
机译:增强的莳萝曝光模型,用于厚光刻胶光刻
机译:模拟光刻胶修整蚀刻工艺对光刻胶表面粗糙度的影响
机译:通过消除气隙减少UV曝光对SU-8负厚光刻胶的衍射作用
机译:曝光工具照明设置的影响和客观数值孔径对光刻胶中驻波时段的效果
机译:精密准分子激光光刻技术,用于带有厚光刻胶的圆柱形基板。
机译:利用厚光刻胶曝光区和非曝光区之间玻璃化转变温度的差异对多孔材料进行微图案化的方法
机译:用于电控制液晶光子带隙光纤器件的各向异性蚀刻V形槽中的厚光刻胶涂层的光刻
机译:用于波纹表面上共形光刻的电子沉积光刻胶的X射线曝光
机译:对准曝光设备的方法,使用该设备对光刻胶膜进行曝光的方法以及用于执行对光刻胶膜进行曝光的方法的曝光设备
机译:场引导的后曝光烘烤对光刻胶微桥缺陷的应用
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。