可调电容器、等离子体阻抗匹配装置、方法和基板处理设备

摘要

本申请揭露了一种基板处理设备，包括：处理室；被配置为从供应至所述处理室内的气体产生等离子体的电极；被配置为输出RF功率的RF电源；被配置为将所述RF功率从所述RF电源传输至所述电极的传输线；连接至所述传输线且被配置为匹配等离子体阻抗的阻抗匹配单元；以及被配置为向所述阻抗匹配单元输出控制信号的控制器，其中，所述阻抗匹配单元包括具有多个电容器以及对应于所述多个电容器的多个开关的可调电容器，所述多个开关根据所述控制信号开启/关闭以便调整所述可调电容器的电容。